Birlikte Sputtering ve birlikte buharlaşma nedir?

Püskürtme ve termal buharlaşma, ortak fiziksel buhar biriktirme PVD'den ikisidir Çin PVD Kaplama Sistemleri Üreticileri İnce film kaplama işlemi teknikleri. Yüksek vakum ortamında gerçekleştirilen bu yöntemler, yarı iletken, optik, fotonik, tıbbi implant, yüksek performanslı otomatik ve aero endüstrilerinin kalbindedir.

“CO” karşılıklı, yaygın - birden fazla anlamına gelir. Birlikte Sputtering ve birlikte buharlaşma, hızla genişleyen ince film teknolojisi olmadan mümkün olmayan benzersiz ve şaşırtıcı niteliklere sahip çok çeşitli yeni ve dikkat çekici bileşimlerin ve alaşımların oluşturulmasına izin veren bir substrata uygulanan birden fazla kaplama malzemesi anlamına gelir.
Birlikte, iki veya daha fazla hedef (veya “kaynak”) malzemenin, vakum odasında bir kerede veya sırayla püskürtüldüğü ve genellikle metal alaşımları veya seramikler gibi metalik olmayan kompozisyonlar gibi ince filmler üretmek için reaktif manyetron püskürtme ile kullanıldığı yerdir.

Optik ve mimari cam endüstrilerinde yaygın olarak kullanılmaktadır. Silikon ve titanyum gibi iki hedef malzemenin çift manyetron püskürtme ile reaktif birlikte yığılması kullanılarak, camın kırılma indisi veya gölgeleme etkisi, mimari cam gibi büyük ölçekli yüzeylerden güneş gözlüklerine kadar değişen uygulamalar üzerinde dikkatli ve hassas bir şekilde kontrol edilebilir. Ayrıca güneş panelleri ve ekranlar üreterek yaygın olarak kullanılmaktadır. Birlikte Sputtering uygulamaları her gün büyümeye devam ediyor.

Birlikte Sputtering, her bir katotun gücünün bağımsız olarak kontrol edilebileceği işlem odasında birden fazla katot (tipik olarak iki veya üç) kullanır. Bu, hem biriktirme oranlarını arttırmak için aynı zamanda aynı hedef malzemenin birden fazla katotunun olması anlamına gelebilir hem de ince filmlerde benzersiz bileşimler ve özellikler oluşturmak için işlem odasındaki farklı hedef malzemeleri birleştirmek anlamına gelebilir.

Reaktif gaz olarak oksijen içeren bir plazmaya püskürtülen silikon hedefleri, 1,5 kırılma indisi olan SIO2'yi oluşturur. Titanyum plazmaya püskürttü. Bu iki hedef kaplama malzemeleri ve bu ikili magnetonların her birine gücü değiştirerek, kaplamanın hassas kırılma indisi özelleştirilebilir ve camda 1.5 ve 2.5 arasında istenen herhangi bir kırılma indine birikebilir.

Bu şekilde, reaktif birlikte sputtering, güneş daha güçlü veya zayıf büyüdükçe mimari camın yansıtıcı özelliklerini değiştiren kaplamalar bile dahil olmak üzere, cam ve özelleştirilebilir veya dereceli kırılma endekslerine sahip diğer malzemeler üzerinde ince film kaplamalarının oluşturulmasını sağladı.
Birlikte, özel uygulamaya bağlı olarak, buharlaşma ve püskürtme PVD kaplama süreçleri arasındaki temel farklılıkları tanımlayarak anlaşılan, birlikte sputtering'e kıyasla avantajları veya dezavantajları olan bir termal buharlaşma sürecidir.

Birlikte buharlaşma ile kaplama malzemeleri, buharlaşmaya veya süblimleşmeye başlayana kadar yüksek vakum odasında ısıtılır. Bu, kaynak malzemenin dirençli bir filament teknesinden/tel sepetinden veya bir elektron ışını kullanılarak bir potadan buharlaştırılmasıyla elde edilir. Termal olarak buharlaştırılmış ince filmlerle yüksek derecede homojenlik elde etmek için, kaplanacak substrat genellikle biriktirme odası içindeki bir veya iki eksen üzerinde döndürülmesiyle manipüle edilir.

Birlikte buharlaşma ince filmlerin yaygın uygulamaları, yüksek derecede opaklık ve yansıtma, teleskop aynaları ve güneş panelleri sağlayan plastikler, cam veya diğer substrat malzemeleri üzerinde metalize kaplamalar bulunmaktadır.

Cu (IN, GA) SE2 (CIGS) dayalı güneş panelleri,%20'nin üzerinde rekor verimliliği olan ince film güneş hücreleri arasında en yüksek rekor verimliliği elde etmiştir. Bu başarının anahtarı, ince film birikiminin hem ön hem de arka yüzeylerinden artan GA konsantrasyonuna sahip derinlemesine bir çift GA gradyanı ile sonuçlanan 3 aşamalı ko-oluşturma işlemidir. Bunlar, eş-taşıma süreçlerinin gerçek dünyada sağladığı stokiyometrik verimlilik türüdür.