DK ark iyonu kaplama

Ark iyonu kaplama

PVD-- Fiziksel buhar birikimi
Bir form fiziksel buhar birikimi (PVD kaplama) ark iyonu kaplamasıdır. PVD kaplamanın geçmişi, kök kaynağında kökeni olan ARC teknolojisini kullanmaya başladı.

Hedefler

Buharlaştırılacak metal, bir vakum odasının iç kısmına karşı katı blok (hedef) olarak yerleştirilir. Bir parıltı deşarjı ateşlenir ve hedefte çalışır ve bir ayak izi bırakır. Birkaç μm çapında hedef malzemeden küçük lekeler buharlaşır. Ark hareketi mıknatıslar tarafından yönlendirilebilir.

Plazma kaplama

Buharlaştırılmış iyonize malzeme, vakum odasının içinde dönen bir ürün üzerinde plazma kaplaması olarak kullanılır. Arc kaplamalar, takım kaplama ve bileşen kaplama olarak kullanılır.

Kaplama örnekleri

Arc kaplama örnekleri Tin, Aitin, Aicrn, Tisin, Ticn, CRCN ve CRN kaplamadır

Bir PVD ark işleminin şematik görünümü.

ARC kaplama teknolojisinin karakterize edilmesi:

Yüksek biriktirme oranları (1 ~ 3 μm/s) Yüksek iyonizasyon, hedef soğudukça iyi yapışma ve yoğun kaplamalarla sonuçlanan, substrat için çok az ısı üretilir, 100 ℃ altındaki sıcaklıklarda bile kaplama mümkündür, birkaç metal bileşimi buharlaştırılabilir, kalan katı hedefin bileşiminde değişmemiş kalması. Katotlar, esnek makine tasarımını mümkün kılan herhangi bir konuma (yatay, dikey, baş aşağı) yerleştirilebilir.

ARC kaplama teknolojisinin ana dezavantajları:

Sınırlı Tür Hedef Malzemeler - Yalnızca Metaller (Oksit Yok) - Yüksek akım yoğunlukları nedeniyle çok düşük bir buharlaşma sıcaklığına sahip olmayan hedef malzemenin bir kısmı küçük sıvı damlacıkları olarak çıkarılır.